SK하이닉스 “EUV장비 中공장 도입은 시기상조”

SK하이닉스 중국 우시 공장. 사진제공 l SK하이닉스

“아직 시간 많이 남아…국내 도입 먼저”

SK하이닉스가 중국 우시 공장 첨단화 계획이 미·중 갈등으로 좌초할 수 있다는 분석을 제기한 외신 보도에 대해 “장비 도입 계획을 논하기에는 시기상조”라며 부인했다.

SK하이닉스는 경기도 이천 공장과 중국 우시 공장 등에서 D램을 생산하고 있으며, 국내·외 생산 공장에 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML의 최신 극자외선(EUV) 노광장비를 도입해 생산 공정 효율을 높이려는 계획을 갖고 있다. EUV는 최근 반도체 산업에서 가장 주목 받는 초미세공정의 핵심 기술이다. 적은 시간에 더 많은 양의 제품을 생산할 수 있도록 하는 게 특징이다.

하지만 18일 로이터통신은 “미국 정부가 중국의 군비 강화를 견제하기 위해 EUV 노광장비 등 첨단 반도체 장비의 중국 반입을 허용하지 않을 것으로 전망된다”며 “SK하이닉스가 중국 우시 공장에 EUV 노광장비를 배치하려는 계획이 미국 정부의 제동으로 좌초될 수 있다”고 보도했다.

이에 SK하이닉스 측은 시기상조라는 입장을 내놨다. SK하이닉스 관계자는 “EUV 노광장비 도입은 아직 국내에서도 초기 단계이고, 중국 공장 도입까지는 아직 많은 시간이 남아 있다”며 “중국 공장에도 언젠가는 EUV 노광장비를 도입하겠지만 국내 도입이 먼저다. 현재로서는 장비 도입 문제를 논하기가 매우 이르다”고 했다.

정정욱 기자 jjay@donga.com